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揭秘Mentor Tanner L-Edit如何加速版图设计

半导体行业观察 ·2020-07-31 09:34·半导体行业观察
阅读:3999


2 020年8月6日14:00~15:30,Mentor技术直播在线开启, 揭秘Mentor Tanner L-Edit如何加速版图设计 ,解读 业界首款用于硅光芯片光电混合自动布局布线工具LightSuite Photonic Compiler, 并分享MEMS器件版图开发中的小技巧



此次直播将介绍:


  • Mentor Tanner L-Edit Photonics和LightSuite Photonic Compiler在硅光芯片版图设计中的应用。包括开源Photonic PDK,基于PDK的手动版图功能,自动化布局布线工具应用,以及EDA工具在硅光芯片开发领域的设计前瞻。


  • Mentor Tanner L-Edit MEMS在MEMS器件版图设计中的应用及版图设计规则验证,以及以版图为基础的MEMS Pro三维模型建立。并会分享一些MEMS器件版图设计中的小技巧。

L-Edit工具是Tanner系列软件的核心要素之一,是一款专为IC和MEMS/Photonic设计开发的版图编辑工具。用户通过利用L-Edit强大的曲线编辑、对象捕捉与对准、支持曲线的布尔运算、直接创建导角/圆角、阵列排布、实时DRC检查等特色功能,可以更准确、更高效地完成设计任务。


L-Edit Photonics更有面向硅光芯片电路级开发的功能,可以让用户基于参数化的Photonic PDK快速完成电路级硅光版图设计。面向大规模硅光芯片开发,Mentor提供了业界首款用于硅光芯片版图设计的自动布局布线工具LightSWuite Photonic Compiler,用户可以快速进行大规模的版图迭代设计,轻松实现设计扩展。


L-Edit MEMS中通过曲线图形、布尔运算、基准点功能,用户可以快速完成复杂的曲线图形设计、环形阵列图形等设计。基于L-Edit MEMS更有进行MEMS器件建模的工具MEMS Pro,通过全定制工艺材料及信息,完成三维模型的建立,确保版图与器件模型、版图与实际生产间的一致性。


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*免责声明:本文由作者原创。文章内容系作者个人观点,半导体行业观察转载仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。


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