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国内外掩模版市场及主要厂商

半导体行业观察 ·2018-08-11 12:21·半导体行业观察
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根据SEMI公布数据:2016年全球半导体掩模版(photomask)销售额为33.2亿美元,占到总晶圆制造材料市场的13%。预计全球半导体掩模版市场可在2018年达到35.7亿美元。

 

伴随半导体厂商相继在中国新建工厂,中国在全球市场上存在感日益增强。据SEMI介绍,2017年中国的掩模板需求占全球的3%。 有观点认为,2020年这一数字将提高至20%。

 

目前国际上生产光掩膜板的企业中包括日本凸版印刷TOPAN、日本大印刷,美国Photronics,日本豪雅HOYA,日本SK电子,台湾光罩等。其中凸版印刷、大日本印刷与Photronic三家的全球市占率达80%以上。此外,晶圆制造企业也会采取自制策略对内提供掩模版,包括英特尔、三星、台积电等均有自制掩模版业务。

 

掩模版主要厂商市场份额

 

一、国外企业

 

(1)日本凸版印刷

 

2004年10月日本凸版印刷以89亿美元收购美国杜邦光掩模,成为全球最大的掩模版供应商,全球市占超过30%。

 

日本凸版印刷在中国的市场占有率约为50%,此前从日本或台湾的生产基地向大陆出口最新的掩模板,而在上生产的掩模板线宽为90nm,其计划将在2018年春季开始生产支持65nm掩模板,2018年度内生产支持14nm产品。投资额可能会达到数十亿日元。

 

(2)大日本印刷

 

大日本印刷(DNP)和美商Photronics在厦门合资成立美日丰创光罩,引进40/28纳米制程,未来5年内将投资1.6亿美元。预计在2018年底开始生产。投产后初期每月产能为600片,1年后将增产到1200片到1500片。

 

(3)Photronics

 

Photronics作为全球领先的掩膜版厂商,主要生产60nm及以上制程的光罩,2014年营收达到4.56亿美元,净利润3202万美元。

 

(4)台湾光罩

 

台湾光罩主要生产和供应相对低端的0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米和90纳米制程的光罩,2014年营收达到4411万美元,净利润191万美元。

 

二、国内企业

 

目前国内的掩膜版厂商主要分为3类:第一类是科研院所,主要有中科院微电子中心,中国电子科技集团第13所、24所、47所、55所等;第二类是专业的掩膜版制造厂商,主要有华润微电子、无锡中微掩模、苏州制版、湖北菲利华。第三类是晶圆代工厂,例如中芯国际,中芯国际的制版能力也处于国际较先进的水平。

 

(1)无锡华润微电子

 

无锡华润微电子有限公司掩模工厂(华润掩模)是国内最早从事光掩模制造的专业企业。能够提供0.18um及以上Stepper掩模。

 

(2)无锡中微

 

无锡中微掩模电子有限公司(简称“中微掩模),是一家从事0.13μm水平以上的高端集成电路掩模制造技术开发和生产的专业公司。

 

(3)苏州制版

 

苏州制版提供全系列石英、苏打玻璃铬掩膜版,制版最小线宽 0.7um,精度 0.07um,面积从3 inch^2到1.4 m^2,满足从高精尖科学研究到大规模企业量产的全方位需求。

 

(4)湖北菲利华

 

湖北菲利华石英玻璃股份有限公司始建于1966年,是国内外具有较大影响力和规模优势的石英材料及石英纤维制造企业,全球少数几家具有石英纤维批量生产能力的制造商,中国航空航天等国防军工领域唯一的石英纤维供应商。近年拓展掩模版业务,2016-2017年公司的光掩模基板销售稳步增长,2016年产值已突破千万。

 

(5)中芯国际掩模

 

中芯国际掩模制造厂, 起初是为该公司自身内部生产需要配套建设的。

 

2016年,投资675亿人民币的中芯国际“新建12寸集成电路先进工艺生产线”项目以及配套建设的高端光掩模生产线等新增总投资近千亿元人民币项目启动仪式在上海浦东新区举行。 ​​​​​​​

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