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两家晶圆厂巨头抢EUV光刻机,ASML大挣特挣

钜亨网 ·2018-04-11 08:50·半导体行业观察
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来源:内容来自钜亨网,谢谢。


《巴伦》报导,芯片设备供应商艾司摩尔ASML的表现,可能要比大多数人想像的要好,瑞士信贷分析师Farhan Ahmad即认为,艾司摩尔的产品是芯片制造商台积电与竞争对手三星电子( 005930-KR )争夺霸主地位的关键要素,估计可以在鹬蚌相争中,渔翁得利。


《巴伦》报导显示,Ahmad 于1 月份便把艾司摩尔股价评级调高至「优于大盘」,Ahmad 并特别指出,「最近对EUV 工具(极紫外光刻Extreme UV,EUV) 的谣言众多。我们的调查表明,EUV 的前景并不是减弱,而是增强。ASML 有望其2019 年EUV 产量订单全满」。


他指出,台积电「在4月2日向ASML和Lasertec下了大约10亿美元的订单」,认为「很可能在第1季度财报上显示为6至8种工具的订单量」。


Ahmad 写道:


「三星继续在EUV 上砸重本。最近的资料显示,除了7 纳米外,三星可能会在10 纳米级DRAM 的部份制造上采用EUV 进行。


因三星计划用EUV 制造低风险DRAM,DRAM 的产品产出有望早于7 纳米出炉,这也是为了扩大7 纳米生产全面使用EUV 的计划之一」。


三星正行销其设计灵活性、更短的周期时间、及更小的模具,作为7 纳米制程的独特优势。三星也正在建设一个由DRAM 和Logic 共享的38 台EUV 工具的EUV 专用工厂」。


Ahmad 认为台积电「可能需要加快5 纳米的脚步,以确保与三星的竞争力」。5 纳米技术将是ASML 在台积电的EUV 真正发光的时期。Ahmad 继续写道:


「台湾有报导称台积电客户对7 纳米的兴趣不高。这是可以理解的,因为7 纳米不能提供与EUV 单一图案化相关的设计灵活性,而其EUV 制程只被用于裁焊VIA孔(无需改变设计)。


同时,7 纳米本预计为在广泛使用EUV 制程的5 纳米(真正的7 纳米)节点前的试车前奏。


我们一直坚持认为7 纳米的采用可能仅限于少数几层芯片上,并且仅限于一部分容量而已。我们预计台积电将在2019 年初开始生产7 纳米产品,并准备在2020 年量产5 纳米。


为了满足产能需求,台积电需要在2019 年开始安装相关工具机台。我们认为ASML 最近的工具订单是来自于台积电,也表示台积电正在努力加强其5 纳米计划」。


受惠于各家晶圆代工厂,包括台积电、三星、格芯等企业纷纷宣布将在2018 年导入7纳米先进制程的情况下,EUV极紫外光光刻机在其中所扮演的关键角色就越来越重要。目前,ASML占据着高达 80% 的市场,垄断了高端光刻机的市场。过去,在14及16纳米制程阶段,各家代工厂的及紫外光光刻机都是来自 ASML。因此,不但带动了2017年ASML整体营收成长33.2%,未来更被看好后续的发展状况。


ASML Wennink表示,展望本季,ASML预估营收将达22亿欧元(相当于季减14.1%)、毛利率预估将介于47-48%之间。2018年ASML预期销售和盈利能力将持续稳健增长。

今天是《半导体行业观察》为您分享的第1554期内容,欢迎关注。

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